有关什么是光刻胶方面的知识，估计很多人不是太了解，今天就给大家详细的介绍一下关于什么是光刻胶的相关内容。

【资料图】

美国穷图匕见，施压荷兰及日本对华停售光刻机，这种技术霸凌的行为极其无耻。荷兰的ASML是全球最顶尖的光刻机提供商，其中EUV极紫外光刻机是目前制程最先进的芯片制造设备，而日本的光刻胶材料技术领先全球。华为就是在这两个地方被卡住脖子，没有了高端芯片导致手机业务半死不活。

当今世界其实还是奉行丛林法则，除了军事霸凌手段之外，技术封锁也无处不在。并没有什么温情脉脉的全球化分工，只有无所不用其极的打压和蛮横。美国幻想通过光刻机来卡住中国的发展注定是徒劳无功，根据摩尔定律，目前半导体行业其实也快到了硅基芯片的天花板，美国这种违背市场规律的行为短期内会我们有所阵痛，好处就是让国内彻底放弃幻想，反而会刺激我们加大力度发展新方向，新技术。自力更生，自给自足是我们长期优秀的传统，看看“福建舰”航空母舰就知道了。

光刻胶是微电子技术中微细图形加工的关键材料，属于工业材料。光刻胶的技术复杂，品种较多。根据其化学反应机理和显影原理，可分负性胶和正性胶两类。

普通的光刻胶在成像过程中，由于存在一定的衍射、反射和散射，降低了光刻胶图形的对比度，从而降低了图形的分辨率。随着曝光加工特征尺寸的缩小，入射光的反射和散射对提高图形分辨率的影响也越来越大。为了提高曝光系统分辨率的性能，人们正在研究在曝光光刻胶的表面覆盖抗反射涂层的新型光刻胶技术。

什么是光刻胶

一、首先，还是简单的介绍一下什么是光刻胶。

（一）定义：

光刻胶（Photoresist）又称光致抗蚀剂，是指通过紫外光、电子束、离子束、X射线等的照射或辐射，其溶解度发生变化的耐蚀剂刻薄膜材料。由感光树脂、增感剂和溶剂3种主要成分组成的对光敏感的混合液体。半导体材料在表面加工时，若采用适当的有选择性的光刻胶，可在表面上得到所需的图像。光刻胶生产技术较为复杂，品种规格较多，在电子工业集成电路的制造中，对所使用光刻胶有严格的要求。

（二）适用领域：

集成电路、平板显示器和半导体分离器件的制造等。

（三）光刻胶类型及应用制程（见下图）：

二、优秀的光刻胶企业

我想大家都知道：南大光电、容大感光，彤程新材，等优质大涨股。

但这次，想寻找队前3外，还有那一些优质潜力股：

（一）上海新阳300236

公司预计2021-01-01到2021-06-30业绩：净利润10500.00万元至11500.00万元,增长幅度为304.96%至343.53%。

相关概念：

公司为拓展业务范围及产品应用领域，投资设立控股子公司上海芯刻微材料技术有限责任公司进行193nm（ArF）干法光刻胶研发及产业化项目。

其他优势：

1）目前，公司在3DIC-TSV+领域的技术和产品已经达到国际领先水平。

2）公司多款晶圆制造用工艺材料已成为中芯国际的基准材料。

3）公司专业从事半导体行业所需电子化学品的研发、生产和销售服务，同时开发配套的专用设备。已经成为中芯国际28nm技术节点的Baseline，无锡海力士32nm技术节点的Baseline。

（二）蓝英装备300293

公司第一季度业绩：净利润-1477万元,增长幅度为18.58%。

相关概念：

2019年11月14日，公司在互动平台称：公司瑞士子公司UCMAG主要为光学和精密仪器行业提供清洗设备。对于精密光学、医学工程、精密机械以及PV+D、CV+D涂层前清洗等典型的清洁度要求最高的应用领域，公司在精密清洗业务板块的代表产品UCM系统可提供全套个性化的设备及解决方案。凭借行业领先的技术实力，UCMAG为ASML（荷兰光刻机制造商阿斯麦公司）及其供应商提供极紫外光刻机（EUV+）的光学系统相关关键部件的清洗设备。